、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規格、內部構成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿(mǎn)足市面常規（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì )對鍍鈦結果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程,